碳化硅晶舟的研发

碳化硅晶舟、碳化硅陶瓷晶舟、碳化硅悬臂桨系统结构比较简单,SiC桨携带舟和硅片进入石英炉管后,就停留在石英炉管内,直到工艺程序结束,SiC桨就携带舟和硅片慢慢回到原位
扩散炉用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。碳化硅桨应用于在光伏太阳能行业,电子行业中,在扩散炉中对多晶硅硅片或单晶硅硅片的(扩散)涂层过程中,对硅片在高温环境中(1000---1300℃)的承载输送作用
    扩散工艺的主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂,即将元素磷、硼扩散入硅片,从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布,以便建立起不同的电特性区域。
碳化硅晶舟、碳化硅陶瓷晶舟
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